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簡要描述：Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。
產(chǎn)品品牌：其他品牌廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2022-04-22訪 問 量：1172相關(guān)文章
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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池 |
Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡
用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD
離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失
設(shè)計波長范圍內(nèi)的近零群延遲色散
Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用，因為它們將保持超短脈沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
通用規(guī)格
| 入射角 (°): | 45 | 鍍膜類型: | S1: Dielectric S2: Stress-compensating |
| 波長范圍 (nm): | 500 - 540, 1000 - 1070 | ||
| 后表面: | Commercial Polish | 鍍膜規(guī)格: | Rs>99.9% @500-540nm; Rp>99.8% @505-530nm; Rs>99.9% @1000-1070nm, Rp>99.8% @1000-1070nm |
| 基底: | Fused Silica | ||
| 平行度（弧分）: | <3 | ||
| 有效孔徑 (%): | >90 | ||
| 典型應用: | Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers | <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol) | |
| 鍍膜: | Ultrafast (500-540, 1000-1070nm) | ||
| 表面質(zhì)量: | 10-5 | GDD Specification: | |
| 設(shè)計波長 DWL (nm): | 515, 1030 | ||
產(chǎn)品型號
| 標題 | 產(chǎn)品編碼 |
| 515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-286 |
| 515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-287 |
| 515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-288 |
雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用，因為它們將保持超短脈沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
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