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Eksma 薄膜激光偏振片（45度角）

簡要描述：Eksma 薄膜激光偏振片（45度角）
薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2021-03-24
訪問量：1245

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 薄膜激光偏振片（45度角）

薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。

薄膜偏振片以45°入射角分離或組合s偏振和p偏振分量。它們設計用于高能激光器。偏振片由UV FS制成，具有很高的激光損傷閾值，在1064 nm處達到10 J / cm2。

我們提供可在45°入射角下工作的圓形標準和高消光比（Tp：Ts：> 1000：1）偏振片。

產(chǎn)品型號

型號	材料	波長		尺寸	偏振效率	消光比
420-1242i45HE	UV FS	343 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1242i45	UV FS	343 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1512i45HE	UV FS	343 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1512i45	UV FS	343 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1252i45HE	UV FS	355 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1252i45	UV FS	355 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1502i45HE	UV FS	355 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1502i45	UV FS	355 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1244i45HE	UV FS	515 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1244i45	UV FS	515 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1514i45HE	UV FS	515 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1514i45	UV FS	515 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1254i45HE	UV FS	532 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1254i45	UV FS	532 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1504i45HE	UV FS	532 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1504i45	UV FS	532 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1248i45HE	UV FS	1030 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1248i45	UV FS	1030 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1518i45HE	UV FS	1030 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1518i45	UV FS	1030 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1238i45HE	UV FS	1053 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1238i45	UV FS	1053 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1538i45HE	UV FS	1053 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1538i45	UV FS	1053 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1258i45HE	UV FS	1064 nm		ø 25.4 x 3 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1258i45	UV FS	1064 nm		ø 25.4 x 3 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
420-1508i45HE	UV FS	1064 nm		ø 50.8 x 6 mm	Tp>98%, Ts<0.1%	> 1000:1
420-1508i45	UV FS	1064 nm		ø 50.8 x 6 mm	Rs/Tp:>99.5/95.0 %	> 200:1
材料			UV FS
表面質(zhì)量			20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)
透射波前畸變			λ/10 @ 633 nm
平行性			< 30 arcsec
通光孔徑			> 90%
入射角			45°±2°
直徑公差			+0.0 -0.12 mm
厚度公差			±0.2 mm
激光損傷閾值			10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz
消光比Tp / Ts			>200:1 (for standard series) >1000:1 (for HE series)

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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