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簡要描述：Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1具有ø17 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由兩個薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安裝在精密的電動旋轉(zhuǎn)安裝座中。衰減器是為許多流行的激光波長設計的。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-19訪 問 量：962詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1
990-0070M
Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1
具有ø17 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由兩個薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安裝在精密的電動旋轉(zhuǎn)安裝座中。衰減器是為許多流行的激光波長設計的。
產(chǎn)品介紹
該電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。適配器中裝有兩個薄膜Brewster型偏振片，它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中。
可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
注意：控制器和電源應單獨訂購。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
適用于Nd：YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 | 配置 |
990-0070-355M | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-355M+CP | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-532M | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-532M+CP | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-1064M | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-1064M+CP | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 | 配置 |
990-0070-257M | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257M+CP | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266M | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266M+CP | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343M | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343M+CP | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400M | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400M+CP | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400BM | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400BM+CP | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515M | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515M+CP | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515BM | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515BM+CP | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800M | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800M+CP | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800BM | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800BM+CP | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030M | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030M+CP | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030BM | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030BM+CP | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
適用于高功率飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 | 配置 |
990-0070-257HM | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257HM+CP | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266HM | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266HM+CP | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343HM | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343HM+CP | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HM | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HM+CP | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HBM | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HBM+CP | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HM | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HM+CP | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HBM | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HBM+CP | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HM | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HM+CP | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HBM | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HBM+CP | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HM | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HM+CP | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HBM | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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