Eksma ?藍(lán)寶石激光三次倍頻套件

Eksma ?藍(lán)寶石激光三次倍頻套件

套件包括有效產(chǎn)生飛秒Ti：Sapphire激光器三次諧波所需的一組組件。

產(chǎn)品介紹

我們的Femtokit設(shè)計用于實現(xiàn)飛秒Ti：Sapphire激光器的有效三次諧波（THG）。它們由一組光學(xué)組件和經(jīng)過精心選擇的非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體組成，以針對不同頻率的基波諧波激光脈沖持續(xù)時間實現(xiàn)三倍頻的優(yōu)良配置。

THG的Femtokit也可以作為完整的解決方案提供，并具有快速設(shè)置所需的光機(jī)械（請在下面的產(chǎn)品列表中查看已安裝的Femtokit）。

參考：

使用Ti：Sapphire Super Spitfire激光器以1 kHz，130fs，20-100 µJ @ 800nm和800nm的有效光束直徑工作時，在0.5 mm SHG BBO晶體中可實現(xiàn)高達(dá)50％的SHG轉(zhuǎn)換效率。使用FKE-800-100 Femtokit，THG效率從根本上達(dá)到了8％。

基本Femtokit FK系列包括以下安裝在1英寸環(huán)形支架中的組件：

Ø1型二次諧波產(chǎn)生（SHG）BBO晶體，在400-800 nm下進(jìn)行P鍍膜

Ø1型三次諧波（THG）BBO晶體，在400-800 / 266 nm下進(jìn)行P鍍膜

Ø用于群速度延遲補(bǔ)償?shù)姆浇馐?，AR鍍膜@ 800 + 400 nm

Ø零階波片，λ/ 2 @ 800 +λ@ 400 nm，光學(xué)接觸，增透膜@ 800 + 400 nm

擴(kuò)展的Femtokit FKE系列包括安裝在1英寸支架中的以下組件：

Ø1型二次諧波生成（SHG）BBO晶體，在400-800 nm下進(jìn)行P鍍膜

Ø1型三次諧波產(chǎn)生（THG）BBO晶體，在400-800 / 266 nm下進(jìn)行P鍍膜

Ø用于群速度延遲補(bǔ)償?shù)姆浇馐?，AR鍍膜@ 800 + 400 nm

Ø零級波片，光學(xué)接觸，λ/ 2 @ 800 +λ@ 400 nm，增透膜@ 800 + 400 nm

Ø零階波片，光學(xué)接觸，增透膜@ 800 nm

Ø諧波分離器，在AOI = 45度時HR @ 266 nm和HT @ 800 + 400 nm

Ø諧波分離器，在AOI = 45 deg時，HR @ 400 nm和HT @ 800 nm

Ø激光反射鏡，HR @ 800 nm，AOI = 45度

每個套件中的SHG BBO晶體，THG BBO晶體和群時延補(bǔ)償板的厚度都不同，并且對于基波諧波的一定脈沖持續(xù)時間是優(yōu)良的，以避免諧波脈沖展寬。

產(chǎn)品型號

基本的Femtokit光電機(jī)械

擴(kuò)展的Femtokit光電機(jī)械

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。